光刻、刻蝕、化學（xué）氣（qì）相沉積（CVD）等工藝中需要高純度真空環境。
提供穩（wěn）定的真空條件以支持芯片製造的高精（jīng）度要求。

高能物理： 用於粒子加速（sù）器和探測器中的真空係統。
表麵分析： 適用於（yú）掃描電子顯微鏡（SEM）、透射電子顯微鏡（TEM）等設備。
質譜分析： 保障分析設備的高真空環境。

衛星模擬（nǐ）： 在真（zhēn）空環（huán）境（jìng）中模擬太空條件。
空間技術測試： 用（yòng）於測試航（háng）天器部（bù）件的真空適應性。

在醫療器械（xiè）生（shēng）產（chǎn）中提供無汙（wū）染（rǎn）的真空環境，例如磁共振成像（MRI）設備。
支持生物樣（yàng）品的真空冷凍幹燥等工藝。

鍍膜技（jì）術： 包括光學鍍膜、裝飾鍍膜和功能性（xìng）薄膜的生產。
顯示麵板： OLED和LCD顯示器的真空蒸鍍工藝。

核聚變研究： 提供托（tuō）卡馬克反應堆或慣性約束核聚變裝置的高真空條件。
太陽能技術： 支（zhī）持高效薄膜光伏電池製造。

垃圾焚燒（shāo）尾（wěi）氣分析（xī）： 檢測環境汙染物的高真空采樣。
納米技術： 為新（xīn）材料研究和生產提供超高真（zhēn）空環（huán）境（jìng）。